贵州纯净水设备，如何排除纯净水设备的日常故障
纯净水设备有时会出现无法产水的故障，这种时候要分两种情况进行分析，一种是高压泵能够正常工作，另一种是高压泵不能正常工作，其排除方法是有所不同的。下面就简要谈谈纯净水设备日常故障排除方案。
1. 纯净水设备高泵运作正常时产水故障排除
此时应仔细查看设备的高压泵是否出现了失压故障，水处理配件耗材是否出现问题。如果废水和纯水都不排出或是只有很少的废水排出，那么有可能是前置滤芯出现了堵塞。
如果只有废水排出却没有纯水排出，那么则是逆止阀被堵塞了。有可能是电磁阀失灵而无法有效启动导致的。查看反渗透膜是否被堵塞。
2. 纯净水设备高压泵不启动时产水故障排除
查看电源连接是否牢固、正常，或是停电所致。查看是否因低压开关故障而无法接通电源导致的。
这种故障有时是因为水位控制器失灵或高压开关故障而致使不能复位所导致的。查看变压器及保险丝是否被烧。
当纯净水设备出现故障时，一定要按照一定的步骤进行分析，然后再采取正确的处理方式，从而避免不当的操作导致其它故障出现，影响设备的正常运行以及使用寿命。同时需要特别提示的是，应该对矿泉水生产设备做定期的清洗和维护保养，从而降低设备出现故障的频率，维持设备长期处于正常的运行状态。

贵州EDI超纯水系统，纯水处理设备系统
受成本、环境和质量因素的影响， 超纯水的生产工艺在近的几十年内经历了很多变化。一个趋势特别明显，即减少对离子交换(IX)的依赖程度，其目的在于将化学使用减少到，并提高水的利用率。
反渗透(RO)技术能将水中95%-98%的离子去除，从而减少了酸碱的用量，但还不能完全不使用化学。为了制备超纯水，通常采用反渗透+混床工艺。混床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生，在再生过程中使用相应的化学(酸碱)，已无法满足现代工业清洁生产和环保的需要。于是将电渗析技术和离子交换技术有机结合形成的EDI技术成为水处理技术的一场革命。
电去离子(Electrodeionization 简称EDI)是将电渗析膜分离技术与离子交换技术有机地结合起来的一种新的制备超纯水(高纯水)的技术，它利用电渗析过程中的极化现象对填充在淡水室中的离子交换树脂进行电化学再生。
EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水(高纯水)。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，工作是连续的，不需要酸碱化学再生。
应用领域
EDI超纯水技术具有技术、操作简便、无污染，是清洁生产技术，在微电子工业、电力工业、工业、化工工业和实验室等领域得到日趋广泛的应用。

超纯水设备顾名思义主要应用在墨水生产中，为了保证墨水的纯度，提高墨水质量，需要使用电阻率在16兆欧以上的水进行配置，而超纯水设备采用的反渗透和EDI技术，设备的出水电阻率达到18兆欧以上，完全满足水。
超纯水设备
超纯水设备
二、超纯水设备典型工艺流程
1、预处理-反渗透-纯化水箱-离子交换器-紫外灯-纯水泵-用水点
2、预处理-一级反渗透-二级反渗透(正电荷反渗透膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
3、预处理-反渗透-中间水箱-中间水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
4、预处理-紫外线杀菌装置-一级RO装置-二级RO装置-中间水箱-EDI装置-脱氧装置-氮封纯水箱-除TOCUV装置-抛光混床-超滤装置-用水点
超纯水设备图片
超纯水设备图片
三、超纯水设备特点
数字化液晶水质显示，全自动化制水，停水或水压不够，系统自动断电保护同时视听报警，多重安全保护。
微电脑智能控制系统，RO膜防垢程序及完善的自动清洗消毒程序。
全自动化无人值守设计：缺水停水时系统自动停机保护，水压恢复正常时系统自动恢复制水状态;纯水备用时系统自动停机，当取用一定纯水时系统自动恢复制水状态。
化指示：电源指示，系统自检指示，泵浦启动指示，RO自动冲洗指示，缺水保护指示，缺水报警指示，纯水备用指示。

超纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内，一个晶片与超纯水的接触超过35次，在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量，甚至导致产品的报废。水处理之家网认为，稳定可靠的超纯水设备系统是保障半导体晶片可持续生产的关键。
一、半导体晶片超纯水设备系统简介
本方案以半导体晶片生产用超纯水设备系统为案例，详细讲解205T/H的超大型超纯水设备系统设计特点、工艺流程、超纯水供水网管设计等。
对于原水中的各种杂质，可以选用的去除方式多种多样，每一种净化设备基于不同的净化原理，对各种杂质的去除效率各不相同，甚至某些设备在去除特定杂质的同时会引起其他杂质数值的上升。超纯水设备系统设计的过程就是在满足水质要求的前提下寻找一个投资与操作优化的净化设备组合方案的过程。不同净化设备对各种杂质的去除效率。对超纯水水质的指标要求：
二、半导体晶片超纯水设备系统设计特点
典型的超纯水设备系统流程可分为部分：预处理、初级制水、精制水。在全球水资源日益匮乏的今日，超纯水的回收再利用已经成为超纯水设备系统设计必不可缺的一部分。一般而言，经工艺机台使用的超纯水除了PH值，电导率，TOC等指标较差外，大部分指标都优于市政供水，只要有针对性地设计一些净化设备，完全可以将超过70％的超纯水供水回收再利用，达到节水环保的目的。当然，回收率越高，其设备投资及操作运行成本也越高。本系统的流程设计充分考虑到工程水质要求高，水量超过250吨小时的特点，各部分的设计兼顾经济性和可操作性，巧妙地将超纯水回收利用系统融合于制备系统。
三、半导体晶片超纯水设备系统工艺流程
自来水—加药—多介质过滤器—常压脱气塔—换热器—10μm过滤器—一级反渗透 —预处理水箱—活性炭过滤器—离子交换器—去离子水箱—紫外线杀菌灯—1μm过滤器—二级反渗透—中间水箱—去有机物紫外线—混床—0.45μm过滤器—膜脱气装置—纯水设备—冷却箱—去有机物紫外线—抛光床—超滤系统—输送管网—用水点
四、半导体晶片超纯水设备系统设计方案
预处理：
1.PAC、NaCl0加药：絮凝剂PAC有助于原水中的胶体粒子和悬浮固体凝集成易被多介质过滤器的大基团，而NaCl0具有杀菌，分解有机物的作用。
2.多介质过滤器：去除原水中经絮凝的胶体粒子和悬浮固体，可通过反冲洗再生。H，S0 加药，常压脱气塔：加H，S0 可将原水中的HC0 一生成C02在常压脱气塔中脱除，常压脱气塔是针对本工程大水量的特点而设计的，可以提高真空膜脱气的除氧效率，减少昂贵的脱气膜组的使用量。
3.热交换器：在冬季原水水温较低时使用热交换器加热反渗透进水以提高反渗透系统的除盐率，保证出水水质。
4.10 u m预过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
5.一级反渗透：反渗透对除了溶解气体以外的大部分杂质都有较好的脱除效果。不同材质的反渗透膜操作条件不同，脱除杂质的效率也不同。醋酸纤维(CA)膜。醋酸纤维(CA)膜脱除率比复合(TFC)膜低，本设计用于一级反渗透，作为预处理阶段去除大量离子等杂质之用。反渗透膜需定期加药清洗以去除表面污染及结垢，保证反渗透效率并延长膜的寿命。
6.预处理水箱：储存一级反渗透产水，收集工艺机台使用过的回收纯水。
7.活性炭过滤器：表面具有无数10—10 A微孔的活性炭吸附预处理水尤其是回收纯水中的有机物，并通过反冲洗再生。
8.离子交换塔：离子交换塔包括阳离子树脂床和阴离子树脂床，主要为去除回收纯水中的各种阴阳离子，降低电导率而设计，同时可进一步纯化预处理水，保证水质离子交换树脂定时用酸碱再生后可反复使用。
初级制水：
1.去离子水箱：储存去离子水，调节和平衡预处理系统和初级制水系统的运行。
2.紫外线杀菌：波长254nm的紫外线灯可达到杀菌的作用。
3.1um过滤器：过滤颗粒杂质，保护反渗透膜。
4.二级反渗透： 采用复合(TFC)膜的二级反渗透可去除高达95％ 以上的各种离子和有机物。
5.中间水箱：储存二级反渗透产水，充普通氮气，隔绝空气，以保护水质不受污染。
6.去有机物紫外线： 波长1 85mm 的紫外线灯可分解有机物至二氧化碳和水。
7.混床：不同于离子交换塔中阴阳离子树脂，混床中使用的树脂可以在较低的离子浓度下获得很好的脱除效率，混床出水电阻率已达1 7M Q．cm以上，接近超纯水电阻率要求。
8.0.45um过滤器：去除去离子水中的颗粒杂质，并捕捉水中可能带出的破碎的混床树脂微粒，以保护膜脱气装置的脱气膜不受损害。
9.膜脱气装置：加真空氮气吹扫的膜脱气装置可保证产水中溶氧达到小于lppb的要求，与早期的真空氮气吹扫的填料塔相比，具有脱气率高，占空间小，节省氮气的优点。
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