水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

贵州EDI超纯水系统，纯水处理设备系统
受成本、环境和质量因素的影响， 超纯水的生产工艺在近的几十年内经历了很多变化。一个趋势特别明显，即减少对离子交换(IX)的依赖程度，其目的在于将化学使用减少到，并提高水的利用率。
反渗透(RO)技术能将水中95%-98%的离子去除，从而减少了酸碱的用量，但还不能完全不使用化学。为了制备超纯水，通常采用反渗透+混床工艺。混床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生，在再生过程中使用相应的化学(酸碱)，已无法满足现代工业清洁生产和环保的需要。于是将电渗析技术和离子交换技术有机结合形成的EDI技术成为水处理技术的一场革命。
电去离子(Electrodeionization 简称EDI)是将电渗析膜分离技术与离子交换技术有机地结合起来的一种新的制备超纯水(高纯水)的技术，它利用电渗析过程中的极化现象对填充在淡水室中的离子交换树脂进行电化学再生。
EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水(高纯水)。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，工作是连续的，不需要酸碱化学再生。
应用领域
EDI超纯水技术具有技术、操作简便、无污染，是清洁生产技术，在微电子工业、电力工业、工业、化工工业和实验室等领域得到日趋广泛的应用。

一、超滤设备简介：
超滤（简称UF）是以压力为推动力，利用超滤膜不同孔径对液体进行分离的物理筛分过程。其分子切割量（CWCO）一般为6000到50万，孔径为100nm（纳米）。起源于是1748年，Schmidt用棉花胶膜或璐膜分滤溶液，当施加一定压力时，溶液（水）透过膜，而蛋白质、胶体等物质则被截留下来，其过滤精度远远超过滤纸，于是他提出超滤一语，1896年，Martin制出了张人工超滤膜，其20世纪60年代，分子量级概念的提出，是现代超滤的开始，70年代和80年代是高速发展期，90年代以后开始趋于成熟。我国对该项技术研究较晚，70年代尚处于研究期限，80年代末，才进入工业化生产和应用阶段。
超滤同反渗透技术类似，是以压力为推动力的膜分离技术。
在从反渗透到电微滤的分离范围的谱图中，居于纳滤（NF）与微滤（MF）之间，截留分子量范围为50-500000道尔顿，相应膜孔径大小的近似值为50—1000A。
二、超滤设备技术分离原理及特点：
超滤设备技术是通过膜表面的微孔结构对物质进行选择性分离。当液体混合物在一定压力下流经膜表面时，小分子溶质透过膜（称为超滤液），而大分子物质则被截留，使原液中大分子浓度逐渐提高（称为浓缩液），从而实现大、小分子的分离、浓缩、净化的目的。
中空纤维超滤膜组件具有装填密度大、结构简单、操作方便等特点，分离过程为常温操作，无相态变化，节省能源，并且不产生二次污染。
三、超滤设备的应用：
过沉砂、过滤(150μm)预处理后作为原水，然后经过超滤组件的对比实验。

矿泉水设备、山泉水处理设备、瓶装线生产纯净水设备、罐装线纯净水生产设备、桶装纯净水设备、纯净水处理设备
产品简介
矿泉水桶装水山泉水纯净水设备由原水预处理、中空纤维超滤主机和臭氧或紫外线杀菌等几部分组成，采用单元组合结构。可减少设备占地面积，便于运输及现场安装调试，具有占地面积小、安装快速、外观漂亮、操作维修方便等优点。预处理罐体可选用玻璃钢或不锈钢材料，设备机架选用不锈钢制作，管路采用食品级PVC-U或不锈钢管材，主要部件（超滤膜、泵阀、仪表等）均由国内外厂商提供，整机性能达到国外同期水平！原水加压泵用来提高系统供水压力；多介质过滤器可清除水中的悬浮物、杂质等；活性炭过滤器可清除水中余氯、异味物质和异味气体，改善口感；精密过滤器进一步去除水中大颗粒杂质，中空超滤膜可将水中的杂质、胶体、酚类化合物、部分氯化物、、等各种有害物质清除掉，并将水中绝大部分对人体有益的各类矿物质保留，有益于进一步提高饮用水健康。
使用范围：
A、用于RO系统的前置处理：可以把源水中的浊度降到1NTU以下，完全去除水中的悬浮物、胶体、有机物和类物质，保证RO膜的稳定的产水量和脱盐率。
B、可以开办矿泉水、山泉水厂、桶装水纯净水厂可以有效滤除原水中的悬浮物、有机物、和大肠等有害物质，使矿泉水纯净水的透明度明显提高，而且保留了矿泉水中的对人体健康有益的各种矿物质；
C、家庭、单位和生活小区集团饮用净水：对自来水进行二次处理，不仅去除了水中大量的悬浮物、胶体和微粒，使自来水变得干净、清沏透明，而且也除去了有机物、和大肠等致病的物质，使自来水变成干净卫生的直饮水。
D、地表水、河水或井水处理后饮用：省去了自来水厂的处理过程，产品水完全达国家生活饮用水标准，而且超滤膜系统具有系统回收率高（90％），设备投入和运行费用低，能耗小等特点。
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